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技術文章

2021
10-14

環掃電鏡常見分類和應用領域
環掃電鏡是一種掃描電子顯微鏡，利用聚焦電子束掃描樣品的表面來產生樣品表面的圖像。最常見的掃描電鏡模式是檢測由電子束激發的原子發射的二次電子。可以檢測的二次電子的數量，取決于樣品測繪學形貌。環掃電鏡常見分類：1.分析掃描電鏡:掃描電鏡配備X射線能譜儀EDS后發展成分析掃描電鏡，不僅比X射線波譜儀WDS分析速度快、靈敏度高、也可進行定性和無標樣定量分析。2.場發射槍掃描電鏡：場發射掃描電鏡得到了很大的發展，不僅提高了常規加速電壓時的分辨本領，還顯著改善了低壓性能。3.低壓掃描電鏡...
2021
10-11

環境掃描電子顯微鏡的工作原理和儀器特點
環境掃描電子顯微鏡工作原理：電子與樣品中的原子相互作用，產生包含關于樣品的表面測繪學形貌和組成的信息的各種信號。電子束通常以光柵掃描圖案掃描，并且光束的位置與檢測到的信號組合以產生圖像。掃描電子顯微鏡由電子槍發射出電子束，在加速電壓的作用下經過磁透鏡系統匯聚，形成電子束，聚焦在樣品表面上，在第二聚光鏡和物鏡之間偏轉線圈的作用下，電子束在樣品上做光柵狀掃描，電子和樣品相互作用產生信號電子。這些信號電子經探測器收集并轉換為光子，再經過電信號放大器加以放大處理，成像在顯示系統上。環...
2021
9-16

透射掃描電子顯微鏡的核心優勢介紹，請收好！
透射掃描電子顯微鏡既有透射電子顯微鏡又有掃描電子顯微鏡的顯微鏡，可以將樣品冷卻到液氮溫度，特別適用于觀測蛋白、生物切片等對溫度敏感的樣品。通過對樣品的冷凍，可以降低電子束對樣品的損傷，減小樣品的形變，從而得到更加真實的樣品形貌。透射掃描電子顯微鏡成像是利用會聚的電子束在樣品上掃描來完成的。在掃描模式下，場發射電子源發射出電子，通過在樣品前磁透鏡以及光闌把電子束會聚成原子尺度的束斑。電子束斑聚焦在試樣表面后，通過線圈控制逐點掃描樣品的一個區域。在每掃描一點的同時，樣品下面的探測...
2021
9-13

場發射電鏡真的那么好用嗎？
場發射電鏡是電子顯微鏡的一種，是以場發射電子發射體發射電子，并以電子束為光源，在真空狀態下通過電磁透鏡控制電子束匯集成很小的束斑照射并透過樣品。由于電子的德布羅意波長非常短，可以獲得樣品原子級微觀形貌。其原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數進行形貌觀察，同時利用電子激發出樣品表面的特征X射線來對微區的成分進行定性定量分析。具有電子束斑小、高分辨率、穩定性好等特點。場發射電鏡有以下幾種用途：1.納米材料基本特性分析：對有機、無機、納米材料進行微觀形態研究...
2021
9-10

FIB雙束掃描電鏡是什么？他又有那些用途？
隨著半導體電子器件及集成電路技術的飛速發展，器件及電路結構越來越復雜，這對微電子芯片工藝診斷、失效分析、微納加工的要求也越來越高。FIB雙束掃描電鏡所具備的強大的精細加工和微觀分析功能，使其廣泛應用于微電子設計和制造領域。FIB雙束掃描電鏡是指同時具有聚焦離子束(FocusedIonBeam，FIB)和掃描電子顯微鏡(ScanningElectronMicroscope，SEM)功能的儀器。它可以實現SEM實時觀測FIB微加工過程的功能，把電子束高空間分辨率和離子束精細加工的...
2021
9-8

聚焦離子束顯微鏡原來可以用于這些地方！
聚焦離子束顯微鏡的利用鎵(Ga)金屬作為離子源，再加上負電場(Extractor)牽引端細小的鎵原子，而導出鎵離子束再以電透鏡聚焦，經過一連串可變孔徑光闌，決定離子束的大小，再經過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面，利用物理碰撞來進行特定圖案的加工，一般單粒子束的顯微鏡，可以提供材料切割、沉積金屬、蝕刻金屬和選擇性蝕刻氧化層等功能。聚焦離子束顯微鏡主要應用于半導體集成電路修改、切割和故障分析、TEM制樣等。1.精細切割及材料蒸鍍：利用顯微鏡可以在素玻璃上分別進行鎵離子精細切割及...
2021
8-24

FIB雙束電鏡是什么？有哪些功能？
隨著半導體電子器件及集成電路技術的飛速發展，器件及電路結構越來越復雜，這對微電子芯片工藝診斷、失效分析、微納加工的要求也越來越高。FIB雙束電鏡所具備的強大的精細加工和微觀分析功能，使其廣泛應用于微電子設計和制造領域。FIB雙束電鏡系統是指同時具有聚焦離子束和掃描電子顯微鏡功能的系統，可以實現SEM實時觀測FIB微加工過程的功能，把電子束高空間分辨率和離子束精細加工的優勢集于一身。其中，FIB是將液態金屬離子源產生的離子束經過加速，再聚焦于樣品表面產生二次電子信號形成電子像，...
2021
8-22

FIB顯微鏡的原理和作用，快來了解一下吧！
隨著納米科技的發展，納米尺度制造業發展迅速，而納米加工就是納米制造業的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發展起來的聚焦離子束(FIB)技術利用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工，配合FIB顯微鏡等高倍數電子顯微鏡實時觀察，成為了納米級分析、制造的主要方法。目前已廣泛應用于半導體集成電路修改、切割和故障分析等。FIB顯微鏡的工作原理：聚焦離子束(FIB)轟擊樣品表面，激發二次電子、中性原子、二次離子和光子等，收集這些信號，經處理顯示樣品的表面形貌。聚焦離子束的...
2021
8-20

TEM掃描電鏡能通過哪些信號得到被檢測樣品信息？
TEM掃描電鏡的制造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的入射電子轟擊物質表面時，被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子等多種的信號，以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時，也可產生電子-空穴對、晶格振動(聲子)、電子振蕩(等離子體)。原則上講，利用電子和物質的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息，如：形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。TEM掃描電鏡正是根據上述不同信息產生的機理，...
2021
8-18

你知道透射電鏡是由哪幾個部分組成的嗎？
透射電鏡結構主要分為電子光學、真空系統和供電控制系統三個部分。一、透射電鏡電子光學部分：整個電子光學部分*置于鏡筒之內，自上而下順序排列著電子槍、聚光鏡、樣品室、物鏡、中間鏡、投影鏡、觀察室、熒光屏、照相機構等裝置。根據這些裝置的功能不同又可將電子光學部分分為照明系統、樣品室、成像系統及圖像觀察和記錄系統。1.照明系統：照明系統由電子槍、聚光鏡和相應的平移對中及傾斜調節裝置組成。它的作用是為成像系統提供一束亮度高、相干性好的照明光源。電子槍由陰極、柵極和陽極構成。在真空中通電...

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